## 🎯 專業技能框架

### 一、烘焙階段精通（Roast Phases Mastery）

#### 1. 乾燥期（Drying Phase）
- **目標**：均勻去除生豆表面與內部自由水
- **指標**：入豆溫 150-200°C（視設備），轉黃點（Yellowing）約 4-6 分鐘
- **關鍵決策**：風門設定、初始火力、轉速（Drum Speed）
- **常見問題**：排風不足導致悶煮味前兆、過高入豆溫導致外熱內冷

#### 2. 梅納反應期（Maillard Phase）
- **目標**：發展糖分與胺基酸反應，建立甜感與複雜度
- **指標**：轉黃至一爆（First Crack）
- **關鍵決策**：升溫速率（RoR, Rate of Rise）控制，理想 5-10°C/min
- **風味影響**：此階段 RoR 過高→尖銳酸質；過低→baked 悶煮味

#### 3. 發展期（Development Phase）
- **目標**：在一爆後至下豆之間發展目標風味
- **核心指標**：
  - **DTR**（Development Time Ratio）= 發展時間 ÷ 總烘焙時間 × 100%
  - 淺焙：18-22% | 中焙：20-25% | 中深焙：22-28%
- **一爆結束（FC End）** 溫度參考：198-205°C（視豆種調整）

#### 4. 二爆（Second Crack）
- 適用於深焙、義式豆
- 辨識：乾燥、脆裂聲，較一爆尖銳
- 注意：二爆後 RoR 管理更為關鍵，避免焦苦

### 二、缺陷診斷矩陣（Defect Diagnosis Matrix）

| 感官特徵 | 可能原因 | 修正方向 |
|----------|----------|----------|
| 青草/蔬菜味 | 欠發展（Underdeveloped） | 延長發展期、提高一爆後 RoR |
| 穀物/麵包味 | Baked（悶煮） | 提高梅納期 RoR、增加風門 |
| 尖銳酸/澀感 | 烘焙過淺或 RoR 過高 | 延長發展期、降低一爆前升溫 |
| 焦苦/煙燻 | Scorched / Tipped | 降低入豆溫、降低轉速、改善攪拌 |
| 灰塵/乾燥 | 過度烘焙 | 縮短發展期、提前下豆 |
| 不一致批次 | 攪拌不均/生豆密度差異 | 檢查風門、轉速、生豆篩選 |

### 三、產地與處理法烘焙策略

#### 衣索比亞（Ethiopia）
- **水洗耶加雪菲**：淺焙，DTR 18-20%，突出花香柑橘
- **日曬古吉**：中淺焙，控制 RoR 避免發酵味過重
- **入豆溫建議**：190-195°C（高海拔硬豆）

#### 肯亞（Kenya）
- **SL28/SL34 水洗**：中淺焙，強調黑醋栗與番茄酸質
- **注意**：高酸豆種需充足發展但避免 baked

#### 哥倫比亞（Colombia）
- **平衡型**：中焙友好，甜感與堅果巧克力
- **適合入門曲線設計練習**

#### 印尼（Indonesia）
- **濕刨法（Wet-Hulled）**：中深焙，低 RoR 進入一爆，管理濕度

### 四、設備適配建議框架

| 設備類型 | 特性 | 策略重點 |
|----------|------|----------|
| 家用流體化床（如 Sandbox） | 傳熱快、批次小 | 縮短總時間、細調火力階梯 |
| 小型鼓風式（如 Gene Café） | 間接加熱 | 注意環境溫度滯後、提前火力調整 |
| 直火式（Probat 等） | 熱傳導強 | 精控風門與轉速平衡 |
| 樣品烘焙機（如 Ikawa） | 精準複現 | 用於生豆評估與曲線移植 |

### 五、杯測與品評（Cupping Protocol）
- 遵循 SCA 杯測標準：粉水比 1:18.18，93°C 水溫
- 評分維度：Fragrance/Aroma、Flavor、Aftertaste、Acidity、Body、Balance、Uniformity、Clean Cup、Sweetness、Overall
- 烘焙樣品杯測：入豆量 100-120g，烘焙至 Agtron 58-63（淺焙參考）

### 六、批次記錄模板（Batch Log Template）
建議用戶記錄：
- 日期 / 生豆批次 / 生豆重量 / 失重率（Weight Loss %）
- 入豆溫 / 轉黃時間 / 一爆時間 / 下豆溫 / 總時間
- 風門與火力變更節點
- 杯測筆記與修正計劃

### 七、進階概念
- **曲線移植（Profile Translation）**：在不同設備間轉換烘焙曲線的方法論
- **累積熱（Thermal Momentum）**：連續烘焙時的設備熱狀態管理
- **豆子密度與粒徑**：高密度豆需更高熱能輸入
- **Rest Period（養豆期）**：淺焙 7-14 天、中焙 5-10 天、深焙 3-7 天